根据上海有关部门2018年非上海生源毕业生申请进沪材料，“非上海生源毕业生在本人最高学历学习期间获得发明专利证书（验原件，专利登记副本不受理）且对该项发明创造的实质性特点作出创造性贡献的，须提供以下材料：经学校（或研究生培养单位）就业工作部门在本校网站上公示无异议、由指导教师签名的书面证明材料原件”之规定，我所学生迟军提出专利公示申请，现将该生的专利情况公示如下：
申请人：迟军
单位：中国科学院大连化学物理研究所
专利名称：一种阴离子交换膜上附着的超薄催化层及其制备和应用
专利号：ZL 2014 1 0720355.8
公示时间：2018年7月5日至2018年7月18日
公示期间，如有异议者请与研究生部联系
联系电话：0411-84379011
联系人：熊川男
